Lugar de origen: | China |
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Nombre de la marca: | Newradar Gas |
Certificación: | ISO/DOT/GB |
Número de modelo: | N/A |
Cantidad de orden mínima: | 1000 kilogramos |
Precio: | negotiation |
Detalles de empaquetado: | embalaje estándar de la exportación: cada cilindro que se protegerá por dos polivinílico-redes, colo |
Tiempo de entrega: | 15-25 días laborables recibieron después su pago |
Condiciones de pago: | L/C, T/T, Western Union, MoneyGram |
Capacidad de la fuente: | 3,00 toneladas por mes |
Riesgos para la salud: | alta densidad relativa | Lista de IPCC de gases de efecto invernadero.: | sí |
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Otros nombres: | Hexafluorudo del carbono, 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane, Perfluoroethane, Ethforane, hidrocaburo halo | Aspecto:: | Gas licuado descolorido |
LA O.N.U NO.: | 2193 | Estándar del grado: | Grado industrial del grado del electrón |
Sinónimos: | 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane; C2F6; etano, hexafluoro-; Ethylhexafluoride; f116; F-116; FC1160; Fluo | Uso: | Equipo de la electrónica, transformador, líquido de refrigeración |
Frecuencia intermedia:: | C2F6 | ||
Alta luz: | gas electrico,pureza más los gases de la especialidad |
Descripción:
Hexafluoroethane se puede utilizar en una tecnología que graba al agua fuerte multifuncional, común en la producción de semiconductores. Puede ser utilizado para el óxido del siliciuro del metal y de metal y la aguafuerte selectiva en cuanto a su matriz del metal. Además, también se utiliza para grabar al agua fuerte el silicio en el silicio.
Hexafluoroethane se puede utilizar así como el trifluoromethane para R508A refrigerante (hexafluoroethane el 61%) y R508B (hexafluoroethane el 54%).
Especificaciones:
1. Propiedades físicas
Materia |
Hexafluoroethane |
Fórmula molecular |
R116 |
CAS No |
76-16-4 |
La O.N.U no. |
2193 |
Clase peligrosa |
2,2 |
Frecuencia intermedia: |
C2F6 |
Cilindrada |
40L, 500L |
Peso de relleno |
cilindro recargable 530kg/500L cilindro recargable 20kg/40L |
Almacenamiento y transporte |
Uso, tienda y transporte debajo de 45C. Tienda en áreas frescas y bien-ventiladas. Guarde lejos del fuego, del calor, de la luz del sol y de las sustancias inflamables. Manija cuidadosamente al cargar y descargando para evitar daños a los cilindros y a los accesorios de gas. |
2. datos técnicos típicos
Pureza, % | ≥99.8 |
Humedad, PPM | ≤10 |
Acidez, PPM | ≤1 |
Residuo del vapor, PPM | ≤100 |
Aspecto | Descolorido, no turbio |
Olor | Ningún hedor extraño |
Peso molecular | 66,1 |
Punto de ebullición, °C | -24,7 |
Temperatura crítica, °C | 113,5 |
Presión crítica, Mpa | 4,58 |
Calor específico del líquido, 30°C, [KJ/(kg°C)] | 1,68 |
ODP | 0 |
GWP | 0,014 |
Usos:
Tecnología que graba al agua fuerte multifuncional | En la producción de aguafuerte del semiconductor del metal |
El substrato del metal |
Puede ser utilizado en la aguafuerte selectiva del metal de silicio del metal y del óxido de metal. Bajo la exposición prolongada a encender o calor intenso los envases pueden romper violentamente y cohete. |