Lugar de origen: | Shandong |
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Nombre de la marca: | OEM |
Certificación: | ISO9001 |
Número de modelo: | N/M |
Cantidad de orden mínima: | 100 KILOGRAMOS |
Precio: | negotiation |
Detalles de empaquetado: | 30lb - paquete del cilindro 926L |
Tiempo de entrega: | 7-10 días |
Condiciones de pago: | Western Union, L/C, T/T |
Capacidad de la fuente: | 50Ton |
Presión de relleno:: | 5MPa | La O.N.U no:: | 3160 |
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Reacciones del aire y del agua: | GAS ALTAMENTE INFLAMABLE. MISMO TÓXICO. MISMO TÓXICO POR LA INHALACIÓN. RIESGO DE EXPLOSIÓN SI ESTÁ | Certificado de los cilindros:: | GB, ISO, CE, PUNTO |
Capacidad de la fuente:: | 30 toneladas por mes | Uso:: | semi industria |
Paquete:: | cilindro 30-1000kg/per | Volumen de los cilindros:: | 30LB, cilindro disponible 50LB |
Alta luz: | gas electrico,pureza más los gases de la especialidad |
Gas C4F6 usado en dispositivos y pantallas de cristal líquido eléctricos digitales
Descripción:
En la molécula C4F6 la C: La relación F es bastante alta controlar la cantidad de polímero en la superficie de la cámara y la superficie de la oblea con respecto a radicales de la aguafuerte de F. Más importante es, que la característica intrínseca permite alta selectividad a los substratos o la foto resista y e.g. C4F8 comparado ventanas de proceso más anchas (Octafluorobutane). Este comportamiento es particularmente beneficioso dirigir la necesidad del submarino los requisitos de 0,25 m.
Al usar el argón como la selectividad del nitruro del gas portador puede dar lugar a una función de disminución. Xenón pues el otro gas portador posible tiene una selectividad creciente. Por lo tanto las mezclas de Ar/Xe son un buen compromiso.
Mercados y usos
INFORMACIÓN TOXICOLÓGICA
RUTA DE LA EXPOSICIÓN | INHALACIÓN: MISMO TÓXICO SI ESTÁ INHALADO. PIEL: MAYO SEA DAÑINO SI ESTÁ ABSORBIDO A TRAVÉS DE PIEL. IRRITACIÓN DE PIEL DE LA CAUSA DE MAYO. CONGELACIÓN DE LA CAUSA DE MAYO. OJOS: IRRITACIÓN DE OJO DE LA CAUSA DE MAYO. |
MUESTRAS Y SÍNTOMAS DE LA EXPOSICIÓN | SEGÚN MI ENTENDER, LA SUSTANCIA QUÍMICA, LAS FÍSICAS, Y LAS PROPIEDADES TOXICOLÓGICAS NO SE HAN INVESTIGADO A FONDO. |
Usos:
1. C4F6 se sugiere para el uso en el plasma, haz de ion o farfulla la aguafuerte en la fabricación de los dispositivos de semiconductor.
2. Particularmente los resultados excepcionales se han observado en la aguafuerte dieléctrica del plasma con Xe y AR como el gas portador y dilutants. En plasma el dieléctrico que la graba al agua fuerte es importante controlar las químicas del plasma para equilibrar especie de la aguafuerte y de la deposición.