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Oxígeno 1982 de las mezclas de gases el 20% de la especialidad de la O.N.U con el tetrafluoruro del carbono

Informacion basica
Lugar de origen: China
Nombre de la marca: newradar / accept OME
Certificación: ISO/DOT/GB
Número de modelo: N/A
Cantidad de orden mínima: 1000 litros
Precio: negotiation
Detalles de empaquetado: 10kg, 40kg o 50kg llenos en el cilindro de gas calificado o llenos según las demandas
Tiempo de entrega: 15-25 días laborables recibieron después su pago
Condiciones de pago: L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidad de la fuente: metro cúbico 3,00 por mes
Información detallada
Uso: proceso de la litografía 248nm y mezclado con el halógeno usando los gases mezclados CAS No.: 7439-90-9
La O.N.U ninguna: 1982 Pureza:: 99,999%
Paquete:: cilindros de acero inconsútiles Otros nombres: Mezcla del tetrafluoruro del carbono del oxígeno
Aspecto:: Gas descolorido Volumen de los cilindros:: 10L, 25L, 40L o 50L
Estándar del grado: Grado del grado del electrón Tóxico: No tóxico
Alta luz:

gases de la especialidad de los productos del aire

,

gases de la especialidad del liquide del aire


Descripción de producto

Oxígeno 1982 de las mezclas de gases el 20% de la especialidad de la O.N.U con el tetrafluoruro del carbono

 

 

Descripción:

 

Mezclas de gases de la especialidad

 

El tetrafluoruro del carbono es una fuente de radicales libres del fluoruro del flúor o del carbono usados en una variedad de etchprocesses de la oblea. El tetrafluoruro del carbono se utiliza con oxígeno para grabar al agua fuerte la polisilicona, el dióxido de silicio, y el nitruro de silicio.

 

El tetrafluoruro del carbono está relativamente inerte en condiciones normales y es un asfixiador. Bajo condiciones del plasma del RF, los radicales libres del flúor están típicamente bajo la forma de CF3

o CF2. Resultados de un CarbonTetrafluoride de una pureza más elevada en el control superior del proceso, que da lugar a un mejor control dimensional y de perfil.

 

Otros hidrocaburos halogenados, así como la presencia de aire o de oxígeno, son perjudiciales al control del grabado de pistas anisotrópico.

 

 

Especificaciones:

 

1. Propiedades físicas

 

Major Components
COMPONENTES CONCENTRACIÓN GAMA
O2 20% 19.9-20.1%
CF4 Balanza  

 

 

 

 

 

 

2. datos técnicos típicos (COA)

 

Impurezas máximas
COMPONENTES CONCENTRACIÓN (PPM)
Dióxido de carbono (CO2) <1>
Monóxido de carbono (CO) <1>
Humedad (H2O) <0>
Nitrógeno (N2) <10>
Oxígeno (O2) <5>
THC (como metano) (CH4) <0>
Otros hidrocaburos halogenados <1>
Hexafluorudo del azufre <1>

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Cilindro Specifications* Contenido Presión
Cilindro Opciones del mercado de la válvula Libras PSIG BARRA
2 CGA 580 DISS 716 70 2000 139

 

 

 

 

Oxígeno 1982 de las mezclas de gases el 20% de la especialidad de la O.N.U con el tetrafluoruro del carbono 0

Usos:

 

1

 Tetrafluoromethane se utiliza a veces como refrigerante de la baja temperatura.

 

2

 Se utiliza en el microfabrication de la electrónica solamente o conjuntamente con el oxígeno como plasma etchant para el silicio, el dióxido de silicio, y el nitruro de silicio.

 

3

 También tiene aplicaciones en detectores de neutrón

 

 

Contacto
Vicky Liu

Número de teléfono : 86-27-82653381

WhatsApp : +8613667126861