| Lugar de origen: | China |
|---|---|
| Nombre de la marca: | Newradar Gas |
| Certificación: | ISO/DOT/GB |
| Número de modelo: | N/A |
| Cantidad de orden mínima: | 1000 litros |
| Precio: | Negociable |
| Detalles de empaquetado: | 10kg, 40kg o 50kg llenos en el cilindro de gas calificado o llenos según las demandas |
| Tiempo de entrega: | 15-25 días laborables recibieron después su pago |
| Condiciones de pago: | L/C, T/T, Western Union, MoneyGram |
| Capacidad de la fuente: | metro cúbico 3,00 por mes |
| Cas No.: | 7439-90-9 | La O.N.U no: | 1982 |
|---|---|---|---|
| Pureza:: | 99,999% | Paquete:: | cilindros de acero inconsútiles |
| Otros nombres: | Mezcla del tetrafluoruro del carbono del oxígeno | Aspecto:: | Gas descolorido |
| Volumen de los cilindros:: | 10L, 25L, 40L o 50L | Estándar del grado: | Grado del grado del electrón |
| tóxico: | No tóxico | Uso: | proceso de la litografía 248nm y mezclado con el halógeno usando los gases mezclados |
| Resaltar: | gases de la especialidad de los productos del aire,gases de la especialidad del liquide del aire |
||
Oxígeno de las mezclas de gases el 20% de la especialidad con el O2 del tetrafluoruro CF4 Mixted del carbono para la polisilicona del grabado de pistas, y dióxido de silicio
Descripción:
Mezclas de gases de la especialidad
El tetrafluoruro del carbono es una fuente de radicales libres del fluoruro del flúor o del carbono usados en una variedad de etchprocesses de la oblea. El tetrafluoruro del carbono se utiliza con oxígeno para grabar al agua fuerte la polisilicona, el dióxido de silicio, y el nitruro de silicio.
El tetrafluoruro del carbono está relativamente inerte en condiciones normales y es un asfixiador. Bajo condiciones del plasma del RF, los radicales libres del flúor están típicamente bajo la forma de CF3
o CF2. Resultados de un CarbonTetrafluoride de una pureza más elevada en el control superior del proceso, que da lugar a un mejor control dimensional y de perfil.
Otros hidrocaburos halogenados, así como la presencia de aire o de oxígeno, son perjudiciales al control del grabado de pistas anisotrópico.
Especificaciones:
1. Propiedades físicas
| Major Components | ||
| COMPONENTES | CONCENTRACIÓN | GAMA |
| O2 | 20% | 19.9-20.1% |
| CF4 | Balanza | |
2. datos técnicos típicos (COA)
| Impurezas máximas | |
| COMPONENTES | CONCENTRACIÓN (PPM) |
| Dióxido de carbono (CO2) | <1> |
| Monóxido de carbono (CO) | <1> |
| Humedad (H2O) | <0> |
| Nitrógeno (N2) | <10> |
| Oxígeno (O2) | <5> |
| THC (como metano) (CH4) | <0> |
| Otros hidrocaburos halogenados | <1> |
| Hexafluorudo del azufre | <1> |
| Cilindro Specifications* | Contenido | Presión | |||
| Cilindro | Opciones del mercado de la válvula | Libras | PSIG | BARRA | |
| 2 | CGA 580 | DISS 716 | 70 | 2000 | 139 |
![]()
Usos:
| 1 |
Tetrafluoromethane se utiliza a veces como refrigerante de la baja temperatura.
|
| 2 |
Se utiliza en el microfabrication de la electrónica solamente o conjuntamente con el oxígeno como plasma etchant para el silicio, el dióxido de silicio, y el nitruro de silicio.
|
| 3 |
También tiene aplicaciones en detectores de neutrón
|