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El laser de encargo del excímero provee de gas el laser del fluoruro del argón para la litografía 193nm

Informacion basica
Lugar de origen: China
Nombre de la marca: Newradar
Certificación: ISO/DOT/GB
Número de modelo: N/A
Cantidad de orden mínima: 1PCS
Precio: negotiation
Detalles de empaquetado: Cilindro lleno de in10L-50L o embalado según las demandas.
Tiempo de entrega: 25 días hábiles después de recibido su pago
Condiciones de pago: L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidad de la fuente: 500 PC por mes
Información detallada
Nombre de producto: Mezclas del fluoruro del argón Gas de relleno: Mezclas de gases del argón, del neón y del flúor
Tipo de la válvula: CGA679 Uso: Lasers del excímero
Volumen del cilindro: 4-50L o modificar para requisitos particulares Presión de relleno: 1800-2000 Psig
Alta luz:

mezclas de gases del laser

,

gas natural de los msds


Descripción de producto

El laser de encargo del excímero provee de gas el laser del fluoruro del argón para la litografía 193nm

 

 

Descripción:

 

Las mezclas del fluoruro del argón se utilizan en 193 usos de la litografía del nanómetro, generalmente conjuntamente con una mezcla de gases inerte.

 

El laser del fluoruro del argón es un tipo concreto de laser del excímero, que a veces se llama un laser del exciplex. Con su longitud de onda de 193 nanómetros, es un laser profundamente ultravioleta, que es de uso general en la producción de circuitos integrados del semiconductor, cirugía del ojo, micromachining, e investigación científica. El excímero del término es corto para el “dimero emocionado”, mientras que el exciplex es corto para el “complejo emocionado”. Un laser del excímero utiliza típicamente una mezcla de un gas noble y un halógeno, que bajo condiciones convenientes del estímulo y de la alta presión eléctricos, emite la radiación estimulada coherente en la gama ultravioleta.

 

Los lasers del excímero de ArF son ampliamente utilizados en las máquinas de alta resolución de la fotolitografía, una de las tecnologías críticas requeridas para la fabricación microelectrónica del microprocesador. La litografía del laser del excímero ha permitido a tamaños de característica del transistor encogerse a partir de 800 nanómetros en 1990 a 22 nanómetros en 2012.

 

 

Especificaciones:

 

1. Propiedades físicas

 

Materia Gas del fluoruro del argón
Fórmula molecular ArF
Fase Gas
Color

Descolorido

Clase peligrosa para el transort 2,2

 

2. datos técnicos típicos (COA)

 

Major Components
COMPONENTES CONCENTRACIÓN GAMA
Flúor 1,0% 0.9-1.0%
Argón 3,5% 3.4-3.6%
Neón Balanza  
Impurezas de Maxinum
COMPONENTE CONCENTRACIÓN (ppmv)
Dióxido de carbono (CO2) <5>
Monóxido de carbono (CO) <1>
Tetrafluoruro del carbono (CF4) <2>
Fluoruro del carbonyl (COF2) <2>
Helio (él) <8>
Humedad (H2O) <25>
Nitrógeno (N2) <25>
Trifluorudo del nitrógeno (NF3) <1>
Oxígeno (O2) <25>
Tetrafluoruro del silicio (SiF4) <2>
Hexafluorudo del azufre (SF6) <1>
THC (como metano) (CH4) <1>
Xenón (Xe) <10>

 

3. Paquete

 

Especificaciones del cilindro Contenido Presión
Cilindro Opciones del mercado de la válvula Pies cúbicos Litros PSIG BARRA
1 CGA679 DISS 728 265 7500 2000 139
2 CGA679 DISS 728 212 6000 2000 139
3 CGA679 DISS 728 71 2000 1800 125

 

Usos:

 

Las mezclas del fluoruro del argón se utilizan en 193 usos de la litografía del nanómetro, generalmente conjuntamente con una mezcla de gases inerte.

 

El laser de encargo del excímero provee de gas el laser del fluoruro del argón para la litografía 193nm 0

Contacto
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