Fluoruro premezclado del argón del gas, litografía de las mezclas de gases 193nm de ArF

Fluoruro premezclado del argón del gas, litografía de las mezclas de gases 193nm de ArF

Descripción:

El uso industrial más extenso de los lasers del excímero de ArF ha estado en la fotolitografía profundo-ultravioleta para la fabricación de dispositivos microelectrónicos. Del principios de los 60 hasta mediados de 1980 s, las lámparas hectogramo-Xe habían sido utilizadas para la litografía en 436, 405 y 365 longitudes de onda del nanómetro. Sin embargo, con la necesidad de la industria del semiconductor de una resolución más fina y de una producción más alta de la producción, las herramientas lámpara-basadas de la litografía podían no más cumplir los requisitos de la industria.

Este desafío fue superado cuando en un desarrollo pionero en 1982, la litografía profundo-ULTRAVIOLETA del laser del excímero fue inventada y demostrada en IBM por K. Jain. Con los avances fenomenales hechos en tecnología del equipo en las dos décadas pasadas, hoy dispositivos electrónicos del semiconductor fabricados usando total de la litografía del laser del excímero $400 mil millones en la producción anual. Como consecuencia, es la litografía del laser del excímero del viewthat de la industria del semiconductor ha sido un factor crucial en el avance continuo ley de la supuesta del Moore.

De una perspectiva científica y tecnológica incluso más amplia, puesto que la invención del laser en 1960, el desarrollo de la litografía del laser del excímero se ha destacado como uno de los jalones principales en la historia de 50 años del laser.

Especificaciones:

1. Propiedades físicas

2. datos técnicos típicos (COA)

3. Paquete

Usos:

Las mezclas del fluoruro del argón se utilizan en 193 usos de la litografía del nanómetro, generalmente conjuntamente con una mezcla de gases inerte.