Fluoruro premezclado del argón del gas, litografía de las mezclas de gases 193nm de ArF

Gas pre-mezclado de fluoruro de argón, mezclas de gas de ArF Litografía de 193nm

Descripción:

La aplicación industrial más extendida de los láseres excimer ArF ha sido en la fotolitografía ultravioleta profunda para la fabricación de dispositivos microelectrónicos.Desde principios de los años 60 hasta mediados de los 80En la industria de los semiconductores, las lámparas Hg-Xe se han utilizado para la litografía a longitudes de onda de 436, 405 y 365 nm.las herramientas de litografía basadas en lámparas ya no podían satisfacer los requisitos de la industria.

Este desafío fue superado cuando en un desarrollo pionero en 1982, la litografía láser excimer UV profunda fue inventada y demostrada en IBM por K. Jain.Con los progresos fenomenales realizados en la tecnología de equipos en las últimas dos décadasEn la actualidad, los dispositivos electrónicos semiconductores fabricados con litografía láser excimer suman 400 mil millones de dólares en producción anual.Es la opinión de la industria de semiconductores que la litografía láser excimer ha sido un factor crucial en el avance continuo de la llamada ley de Moore..

Desde una perspectiva científica y tecnológica aún más amplia, desde la invención del láser en 1960,El desarrollo de la litografía láser excimer ha sido destacado como uno de los hitos principales en los 50 años de historia del láser.

Especificaciones:

1.Propiedades físicas

2.Datos técnicos típicos (DTC)

3Paquete

Aplicaciones:

Las mezclas de fluoruro de argón se utilizan en aplicaciones de litografía de 193 nm, generalmente junto con una mezcla de gas inerte.