products

Oxígeno licuado descolorido del fluocarbono/del gas C2F6 del hidrocaburo halogenado 116

Informacion basica
Lugar de origen: China
Nombre de la marca: newradar
Certificación: ISO/DOT/GB
Número de modelo: N/A
Cantidad de orden mínima: 1000 kilogramos
Precio: negotiation
Detalles de empaquetado: embalaje estándar de la exportación: cada cilindro que se protegerá por dos polivinílico-redes, colo
Tiempo de entrega: 15-25 días laborables recibieron después su pago
Condiciones de pago: L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidad de la fuente: 3,00 toneladas por mes
Información detallada
CAS No.: 2551-62-4 EINECS no:: 200-939-8
RIDADR: La O.N.U 2193 2,2 Otros nombres: Hexafluorudo del carbono, 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane, Perfluoroethane, Ethforane, hidrocaburo halo
Aspecto:: Gas licuado descolorido LA O.N.U NO.: 2193
Estándar del grado: Grado industrial del grado del electrón Sinónimos: 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane; C2F6; etano, hexafluoro-; Ethylhexafluoride; f116; F-116; FC1160; Fluo
Uso: Equipo de la electrónica, transformador, líquido de refrigeración Uso: Equipo de la electrónica, transformador, líquido de refrigeración
Frecuencia intermedia:: C2F6 Frecuencia intermedia:: C2F6
Mol File:: 76-16-4.mol
Alta luz:

gas de electrón

,

pureza más los gases de la especialidad


Descripción de producto

Oxígeno licuado descolorido del fluocarbono/del gas C2F6 del hidrocaburo halogenado 116

 

 

Descripción:

 

Los gases electrónicos Hexafluoroethane son contrapartes de un fluocarbono al etano del hidrocarburo. Es un gas inflamable insignificante soluble en agua y levemente soluble en alcohol.

 

Hexafluoroethane se utiliza como etchant versátil en la fabricación del semiconductor. Puede ser utilizado para la aguafuerte selectiva de los siliciuros y de los óxidos del metal contra sus substratos del metal y también para grabar al agua fuerte del dióxido de silicio sobre el silicio. El aluminio primario y las industrias fabriles del semiconductor son los emisores principales del hexafluoroethane.

 

Hexafluoroethane está relativamente inerte. La mezcla es inflamable y no tóxica, aunque la asfixia puede ocurrir debido a la dislocación del oxígeno. Bajo la exposición prolongada a encender o calor intenso los envases pueden romper violentamente y cohete.

 

Hexafluoroethane está químicamente inerte en muchas situaciones, pero puede reaccionar violentamente con los reductores fuertes tales como los metales muy activos y los metales activos. Puede reaccionar con oxidante fuertes u oxidante más débiles bajo extremos de la temperatura.

 

Los vapores pueden causar vértigos o la asfixia sin el cuidado. Los vapores del gas licuado son inicialmente más pesados que el aire y la extensión a lo largo de la tierra. El contacto con el gas o el gas licuado puede causar quemaduras, lesión severa y/o la congelación. El fuego puede producir los gases de irritación, corrosivos y/o tóxicos.

 

 

Especificaciones:

 

1. Propiedades físicas

 

Materia

 Hexafluoroethane

Fórmula molecular

 R116

CAS No

 76-16-4

 

La O.N.U no.

 

2193

 

Clase peligrosa

 2,2

Frecuencia intermedia:

 C2F6

Cilindrada

 40L, 500L

Peso de relleno

 cilindro recargable 530kg/500L

 cilindro recargable 20kg/40L

Almacenamiento y transporte

 Uso, tienda y transporte debajo de 45C. Tienda en áreas frescas y bien-ventiladas. Guarde lejos del fuego, del calor, de la luz del sol y de las sustancias inflamables. Manija cuidadosamente al cargar y descargando para evitar daños a los cilindros y a los accesorios de gas.

 

2. datos técnicos típicos

 

Pureza, % ≥99.8
Humedad, PPM ≤10
Acidez, PPM ≤1
Residuo del vapor, PPM ≤100
Aspecto Descolorido, no turbio
Olor Ningún hedor extraño

 

 

 

 

 

 

 

 

Peso molecular 66,1
Punto de ebullición, °C -24,7
Temperatura crítica, °C 113,5
Presión crítica, Mpa 4,58
Calor específico del líquido, 30°C, [KJ/(kg°C)] 1,68
ODP 0
GWP 0,014

 

 

 

 

 

 

 

 

Oxígeno licuado descolorido del fluocarbono/del gas C2F6 del hidrocaburo halogenado 116 0

Usos:

 

Tecnología que graba al agua fuerte multifuncional

Hexafluoroethane se utiliza como etchant versátil en la fabricación del semiconductor. Puede ser utilizado para la aguafuerte selectiva de los siliciuros y de los óxidos del metal contra sus substratos del metal y también para grabar al agua fuerte del dióxido de silicio sobre el silicio. El aluminio primario y las industrias fabriles del semiconductor son los emisores principales del hexafluoroethane.

 

Los refrigerantes

Así como trifluoromethane se utiliza en los refrigerantes R508A (el 61%) y R508B (el 54%).

 

 

 

Contacto
Vicky Liu

Número de teléfono : 86-27-82653381

WhatsApp : +8613667126861