Plasma Fluocarbono-basada del gas C4F6 99,995% de la pureza elevada que graba al agua fuerte el gas descolorido

Pureza elevada C4F6 el gas99.995%, uso en la aguafuerte Fluocarbono-basada del plasma

Descripción:

Gas el grabar al agua fuerte seco HFB, C4F6 que ha desarrollado en Rusia. C4F6 permite la aguafuerte seca en una línea anchura de tan estrecho como 90 nanómetro o menos. Es por lo tanto imprescindible para el sistema de proceso LSIs y los dispositivos de memoria de alta velocidad, de gran capacidad que se utilizan cada vez más en dispositivos y pantallas de cristal líquido eléctricos digitales.

Los gases del fluocarbono son ampliamente utilizados para procesar el silicio de revestimiento de óxido. Comparado con el octafluorocyclobutane (C4F8) usado actualmente para procesar en la línea anchura de 130 nanómetro, C4F6 tiene las ventajas siguientes:

relación de aspecto 1.High, dando por resultado los surcos estrechos y profundos (convenientes para procesar en la línea anchura muy estrecha)

selectividad 2.High (asegura la aguafuerte del silicio de revestimiento de óxido solamente; no afecta a la fotoprotección, al substrato de silicio o a la película del nitruro)

FUEGO LAS MEDIDAS DE LUCHA CONTRA

MEDIDAS DE PRIMEROS AUXILIOS

Usos:

1.C4F6 puede utilizar como gases filmógenos organometálicos,

2. El gas de HFB (C4F6) puede utilizar como agentes de limpieza, humo que procesa a los depuradores