Gas que graba al agua fuerte de la pureza 99,95% eléctricos del gas C4F6 para el proceso del semiconductor

C4F6 gas que graba al agua fuerte de la pureza 99,95% para el proceso del semiconductor

Descripción:

gas el grabar al agua fuerte seco de hexafluoro-1,3-butadiene (C4F6) que ha desarrollado en Rusia. C4F6 permite la aguafuerte seca en una línea anchura de tan estrecho como 90 nanómetro o menos. Es por lo tanto imprescindible para el sistema de proceso LSIs y los dispositivos de memoria de alta velocidad, de gran capacidad que se utilizan cada vez más en dispositivos y pantallas de cristal líquido eléctricos digitales.

Los gases del fluocarbono son ampliamente utilizados para procesar el silicio de revestimiento de óxido. Comparado con el octafluorocyclobutane (C4F8) usado actualmente para procesar en la línea anchura de 130 nanómetro, C4F6 tiene las ventajas siguientes:

PAQUETE ESTÁNDAR INFORMATION-ASIA Y NORTEAMÉRICA

Usos:

1. Puede utilizar en la aguafuerte flúor-basada.

2. También puede utilizar en gases de limpieza,

3. C4F6 puede utilizar como gases filmógenos organometálicos,